壓電掃描臺(tái)應(yīng)用于納米壓印
納米壓印是一種全新的納米圖形復(fù)制方法，實(shí)質(zhì)是將傳統(tǒng)的模具復(fù)型原理應(yīng)用到微觀制造領(lǐng)域。它是通過(guò)將刻有目標(biāo)圖形的母版壓印到相應(yīng)的襯底（通常是一層很薄的聚合材料）上實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移，以完成微納米加工的光刻步驟。納米壓印技術(shù)是制作納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵，具有廣闊的應(yīng)用前景。
利用芯明天P18.XY300二維掃描臺(tái)，可帶動(dòng)鍍膜鏡片在0~300μm的平面內(nèi)對(duì)讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化，同時(shí)控制激光器及掃描臺(tái)，二者配合完成圖像的納米精度加工。
下圖為通過(guò)芯明天運(yùn)動(dòng)控制軟件操作二維壓電掃描臺(tái)，激光光刻的100μm×100μm圖標(biāo)。
P18.XY300壓電掃描臺(tái)
P18.XY300為二維直線掃描臺(tái)。臺(tái)體采用機(jī)構(gòu)放大設(shè)計(jì)原理，內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷，可以實(shí)現(xiàn)375μm的高速掃描，運(yùn)動(dòng)直線性好，配套芯明天大功率控制器響應(yīng)時(shí)間可達(dá)5ms，通光孔徑為Ø35mm，是精密加工、半導(dǎo)體制造、掃描顯微等應(yīng)用的不錯(cuò)選擇。
特點(diǎn)
·位移可達(dá)375μm/軸
·承載達(dá)3kg
·通孔直徑：Ø35mm
·閉環(huán)重復(fù)定位精度高
階躍時(shí)間
單點(diǎn)定位應(yīng)用，P18.XY300S帶載100g負(fù)載階躍時(shí)間60ms。
技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | 尾綴S-閉環(huán)尾綴K-開(kāi)環(huán) | P18.XY300S P18.XY300K | 單位 |
運(yùn)動(dòng)自由度 | X、Y | ||
標(biāo)稱(chēng)行程范圍（0~120V） | 300或±150/軸 | μm±20% | |
行程范圍（0~150V） | 375或±187.5/軸 | μm±20% | |
傳感器類(lèi)型 | SGS/- | ||
通孔尺寸 | Ø35 | mm | |
閉/開(kāi)環(huán)分辨率 | 10/5 | nm | |
閉環(huán)線性度 | 0.2/- | %F.S | |
閉環(huán)重復(fù)定位精度 | 0.15/- | %F.S | |
俯仰/偏航/滾動(dòng) | <15 | μrad | |
推/拉力 | 150/150 | N | |
運(yùn)動(dòng)方向剛度 | X0.5/Y0.5 | N/μm±20% | |
空載諧振頻率 | X250/Y500 | Hz±20% | |
閉/開(kāi)環(huán)空載階躍時(shí)間 | 50/10 | ms±20% | |
閉環(huán)空載 工作頻率 | 10%行程 | 40 | Hz±20% |
行程 | 10 | ||
承載能力 | 3 | kg | |
靜電容量 | 21/軸 | μF±20% | |
材質(zhì) | 鋁 | ||
重量 | 380 | g±5% | |
17051647888
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